热蒸发镀膜系统
| 应用范围 |
各类光学薄膜、低熔点金属和合金薄膜。特别适合小型企业、科研单位和高校使用。 |
| 系统简介 |
热蒸发镀膜系统通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，实现薄膜的制备。系统主要包括有真空腔、加热源、电源、真空泵组、以及测量与控制系统等。中科等离子公司采用多种加热源技术，结合蒸镀工艺，研发了多款蒸发镀膜设备。 |
| 小型热蒸发镀膜机 |
采用电阻加热蒸发工艺，可满足各种常见金属及部分非金属的蒸发;设备小巧，操作简便，设有观察窗便于观察镀膜过程配合分子泵组可达到5.0×10-5Pa极限真空，能够有效保证蒸镀薄膜的纯净度和结合力。 |
| 产品特点 |
系统集成度高，结构紧凑，占地面积小。 科研教学两用，真空性能优良，成膜稳定性好。 系统配置灵活，可根据客户需求，配置不同数量和功率的蒸发源，满足客户定制化需求。 |
| 设备参数 | 真空室尺寸 | 极限真空度 |
| Φ300*H450mm | 5.0×10-5Pa | |
| 抽真空时间 | 真空泵 | |
| 连续30min内,≤5.0×10-4Pa | 机械泵+分子泵 | |
| 蒸发源数量 | 蒸发电源 | |
| 电阻式蒸发电极3对 | 2套2kW，其中一套可切换 | |
| 基片台尺寸 | 加热控制 | |
| Φ30-100min | 可加热过水冷，最高加热温度500℃ | |
| 蒸距调节范围 | 备注 | |
| 60-150mm | 可根据客户需求定制设计 |
