等离子体镀膜系统/磁控溅射镀膜系统
等离子体镀膜系统/磁控溅射镀膜系统
CPT-CCP-300JS-A/CPT-CCP-500JS-A
所属公司：
由安徽省金屹等离子体电源科技有限公司出品
| 产品介绍 |
纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于高校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。 |
| 等离子体镀膜系统 |
利用真空等离子体中特有人性质，通过蒸发、溅射或气相沉积的方法，实现薄膜的制备。根据的等离子体工艺和镀膜原理的不同，大致分为阴极弧离子镀、磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积等。中科等离子公司采用多种等离子体源技术，结合薄膜生长调控工艺，研发了多款等离子体真空镀膜设备。 |
| 等离子体镀膜系统 |
主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶、基片加热台、等离子体电源(直流 /中频/射频电源)、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 |
| 设备参数 |
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