电子束蒸发镀膜系统
电子束蒸发镀膜系统
CPT-EB-600ZD-A
等离子体能变换及管理系统
金屹等离子
所属公司：
由安徽省金屹等离子体电源科技有限公司出品
| 产品介绍 |
纳米器件，有机光电器件的金属电极，以及用于生长纳米材料催化剂薄膜层的制备。 |
| 系统简介 |
该系统配置多坩埚电子束蒸发源，同时选择搭配多组电阻蒸发源，在高真空条件下，利用电子束准确地轰击坩埚内靶材,使靶材融化蒸发，进而沉积在基片，上,在基底上凝结形成薄膜，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，应用于高校、科研院所制备光学薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等，以及企业的小批量生产。 |
| 产品特点 |
专用的样品夹具，安装方便快捷，提高实验效率、可靠性。 设备性能稳定，可为待蒸发的物质提供更高的热量，蒸镀速率更快。 可提供成熟的工艺参考，助理研究效率。 电子束定位精准，可有效避免坩埚材料的蒸发和污染。 PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，点地面积小。 |
| 设备参数 | 真空室尺寸 | 极限真空度 |
| Φ600*H750mm | 5.0×10-5Pa | |
| 抽真空时间 | 真空泵 | |
| 连续30min内,≤8.0×10-4Pa | 机械泵+分子泵 | |
| 电子枪 | 电阻蒸发 | |
| 6穴坩埚电子枪，8.0kVA | 3对电极，2.0kW | |
| 基片台尺寸 | 加热控制 | |
| Φ30-100mm | 真空专用加热器，最高加热温度500℃ | |
| 膜厚控制 | 备注 | |
| 膜厚测量系统 | 可根据客户需求定制设计 |
